顯影液 利用鹼性顯影液將光阻(PR, Photo Resist)經曝光後形成的有機酸中和、剝落，留下未反應的光阻圖案。 TMAH (氢氧化四甲基铵) NaOH (氢氧化鈉) KOH (氢氧化钾) 蚀刻液 Al etchant (铝蚀刻液) Mo etchant (钼蚀刻液) Cu etchant (铜蚀刻液) H3PO4 (磷酸) HNO3 (硝酸) H2SO4 (硫酸) HAc (醋酸) HF (氢氟酸) 草酸 ITO Etchant (ITO蚀刻液) MAE (混酸蚀刻液) 氯化铁溶液 HCL盐酸 EMN(钼蚀刻液) 光阻剥离剂 DMSO (二甲基亚碸) BDG (二乙二醇单丁醚) MEA (单乙醇胺) NMP (氮-甲基四氢吡咯酮) Cu Stripper 三乙醇胺 二甲基乙酰胺 光阻剥离剂(BM-37) 光阻剥离剂(BM-73) 光阻剥离剂(MD-73) 光阻剥离剂(BT-53) 光阻剥离剂(SF-D20) 光阻剥离剂(SF-M15) 光阻剥离剂(SBM-31) 光阻剥离剂(Stripper-10) 光阻剥离剂(ST-02) 光阻剥离剂(SDN-64) 光阻剥离剂(SNT-35) 光阻稀释剂与洗边剂 光阻稀释剂 PGME (丙二醇单甲醚) PGMEA (丙二醇单甲醚醋酸酯) Anone (环已酮) CPN (环戊酮) 光阻清洗剂 乙酸正丁酯 苯甲醇 乙二醇 碱性玻璃清洗剂(GDS-155) 清洗剂 彩色滤光片再生剂 彩色滤光片再生剂 其他 NH4OH (氨水) H2O2 (双氧水) 三氯氧磷 三氯氧磷(POCl3) 四氧化矽 四氧化矽 一氧化二氮 一氧化二氮(N2O)